经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，---在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过---制版、显---，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论概括如下：
1、---显影过程不同
正性胶在---区间显影，负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同，保温杯---显影厂家，负性胶由于---区间得到保留，漫射形成的轮廓使显---的图象为上宽下窄的图像；而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱，显影剂采用中型碱溶液，而是负性胶多采用有机溶液，如二甲本溶液。
反转显影中，感光鼓与---电荷极性相同。显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓---区域。其中---部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未---部位电位。
这样感光鼓表面不可见的静电潜像，就变成了可见的与原稿浓淡一致的不同灰度层次的---图像。在静电复印机中，保温杯---显影，---的带电通常是通过---与载体的摩擦来获得的，名称后色带电极性与载体带电极性相反（单组份显影剂中，仅有碳粉，碳粉与出粉刀摩擦带电）。
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