负胶：---区域发生交联，保温杯---显影报价，难溶于显影液。特性：---的粘附能力、---的阻挡作用、感---度快；显影时发生变形和膨胀，所以只能用于2μm的分辨率。
正胶：正性光刻胶的---区域容易溶解于显影液。特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
目---般都是用正胶，对于线宽要求不高的时候或者一些特殊的用途（比如pss等）可以选择负胶
可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，---在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。1、蚀刻：利用蚀刻液与bai铜层反应，蚀去线路板上不需要du的铜，得到zhi所要求的线路。
2、---dao：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即pcb）上。
3、显影：通过碱液作用，保温杯---显影设计，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。
显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的---使感光鼓上的静电潜像转变成可见的---图像的过程。显影包括正显影和反转显影。正显影时，保温杯---显影，显影---所带电荷的极性，保温杯---显影服务，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，---被吸附在感光鼓上。酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。
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