---显影可以帮助制造微米或毫米尺寸的芯片结构，铭牌---显影工厂，实现芯片的复杂功能。---显影技术可以制造出复杂的三维芯片结构，让芯片具有更高的性能和功能。---显影可以在芯片上制造微细的线路，从而实现快速和---的信号传输。显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
---不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。---过度，会造成难显影，留有残胶。同时---影响图案的线宽，过量---会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。3d曲面玻璃的---显影技术的优势在于：在玻璃表面有---的解像力，紫金铭牌---显影，利用---显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题，具有精度高，铭牌---显影订做，量产性好，良率---特点，采用---显影技术，铭牌---显影公司，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
---一般在---机内进行，目前的---机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，---取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、---时间、菲林胶片等因素。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用diw立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显---缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。
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