当前位置： 首页> 商机信息
 
商机信息
信息标题 平面曝光显影服务-阳江平面曝光显影-清溪利成感光
发布时间 2022-3-21
光刻工艺的显影方法，包括：旋转步骤：以速度旋转声表面波晶片；次滴注步骤：移动显影液手臂至所述声表面波晶片的边缘处并开始滴注显影液；移动步骤：将显影液手臂从声表面波晶片的边缘移动至声表面波晶片的中心位置
信息标题 圆弧面曝光显影抛光-圆弧面曝光显影-利成感光五金厂
发布时间 2022-3-20
正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法，属于半导体制造技术领域，尤其涉及一种正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法。光刻工艺是半导体集成电路制造工艺中关键的步骤。在进行离子注入或刻蚀之前，需要通过
信息标题 东莞利成感光五金-充电宝LOGO曝光显影公司
发布时间 2022-3-18
一种3d曲面玻璃***显影定位夹具制造技术，充电宝logo***显影工艺，包括定位板、曲面透光镜片、菲林片和盖板；所述定位板上设有与曲面产品镜面同样大小的透光通槽，所述曲面透光镜片嵌装在透光通槽中，所
信息标题 保温杯曝光显影设计-宝安保温杯曝光显影-利成感光五金厂
发布时间 2022-3-16
---显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，保温杯---显影公司，都会涉及到---显影工艺，此方法可适
信息标题 标牌曝光显影服务-标牌曝光显影-东莞利成感光五金
发布时间 2022-3-15
光刻工艺是半导体集成电路制造工艺中关键的步骤。在进行离子注入或刻蚀之前，需要通过光刻工艺形成光刻胶团，以预先定义出待刻蚀或离子注入的区域。将所述半导体晶片传送至曝光设备，通过一系列对准动作后，标牌曝光
信息标题 亮面曝光显影-清溪利成感光-亮面曝光显影厂家
发布时间 2022-3-14
光刻工艺的主要步骤如下(1)对半导体晶片(wafer)进行清洗，并使用增黏剂进行成膜处理；(2)在所述半导体晶片上通过旋涂的方法形成光刻胶层；(3)执行软烘烤(soft bake)工艺，亮面***显影
信息标题 标牌曝光显影设计-标牌曝光显影-东莞利成感光五金
发布时间 2022-3-13
随着市场对3d镜片产品的需求，标牌***显影设计，***显影工艺的要求越来越高。现有***显影工艺的方案为一涂一曝一显，具体的，***显影工艺依次为：清洗1→涂布1→预烤1→***1→显影1→固烤1→
信息标题 充电宝LOGO曝光显影设计-利成感光-充电宝LOGO曝光显影
发布时间 2022-3-13
显影是在***后的重要步骤，利用***区域在化学性质上与未暴光的区域不同，充电宝logo***显影设计，在特定的化学溶液中选择性的保留***区域（负胶）或者未***区域（正胶）的过程。从而获得终所需的
信息标题 铭牌曝光显影-利成感光-铭牌曝光显影厂
发布时间 2022-3-12
显影问题如果不能正确地控制显影工艺，图形传递的度就会出现问题，这些光刻胶的图形问题，铭牌---显影，如未能及时检出，传递到后续的刻蚀或者去胶工序中，就会对产品产生明显的---影响。显影液中还会添加表面
信息标题 手机壳曝光显影报价-手机壳曝光显影-利成感光五金
发布时间 2022-3-11
在手机、平板电脑及其他各种带视窗的玻璃镜片产品装饰面印刷上，除了使用传统的热固化油墨外，手机壳***显影厂，还大量使用到uv感光油墨。目前玻璃镜片领域现用的感光油墨***显影工艺，仍停留在2d平面产品
上一页 [1]... [83] [84] [85] [86] [87] [88] [89] [90] [91] [92] ...下一页
页次：87/246　10条/页　共2459条